【導讀】富士通半導體明年計劃量產(chǎn)氮化鎵功率器件,滿足高效電源單元供應(yīng)市場需求,可使服務(wù)器電源單元實現(xiàn)2.5kW的高輸出功率,這些器件可廣泛用于電源增值應(yīng)用。
富士通半導體(上海)有限公司近日宣布采用其基于硅基板的氮化鎵 (GaN) 功率器件的服務(wù)器電源單元成功實現(xiàn)2.5kW的高輸出功率,富士通半導體計劃將于2013年下半年開始量產(chǎn)這些GaN功率器件。這些器件可廣泛用于電源增值應(yīng)用,對實現(xiàn)低碳社會做出重大貢獻。
與傳統(tǒng)硅基功率器件相比,基于GaN的功率器件具有導通電阻低和能夠進行高頻操作等特性。而這些特性恰恰有利于提高電源單元轉(zhuǎn)換效率,并使電源單元更加緊湊。富士通半導體計劃在硅基板上進行GaN功率器件的商業(yè)化,從而可以通過硅晶圓直徑的增加,來實現(xiàn)低成本生產(chǎn)。按照此目標,富士通半導體自2009年起就在開發(fā)批量生產(chǎn)技術(shù)。此外,富士通半導體自2011年起開始向特定電源相關(guān)合作伙伴提供GaN功率器件樣品,并對之進行優(yōu)化,以便應(yīng)用在電源單元中。
圖1:氮化鎵功率器件
最近,富士通半導體開始與富士通研究所 (Fujitsu Laboratories Limited) 合作進行技術(shù)開發(fā),包括開發(fā)工藝技術(shù)來增加硅基板上的高質(zhì)量GaN晶體數(shù)量;開發(fā)器件技術(shù),如優(yōu)化電極的設(shè)計,來控制開關(guān)期間導通電阻的上升;以及設(shè)計電源單元電路布局來支持基于GaN的器件的高速開關(guān)。這些技術(shù)開發(fā)結(jié)果使富士通半導體在使用GaN功率器件的功率因數(shù)校正電路中成功實現(xiàn)了高于傳統(tǒng)硅器件性能的轉(zhuǎn)換效率。富士通半導體還設(shè)計了一種具有上述功率因數(shù)校正電路的服務(wù)器電源單元樣品,并成功實現(xiàn)了2.5kW的輸出功率。
將該項技術(shù)的開發(fā)成功也意味著富士通半導體鋪平了其GaN功率器件用于高壓、大電流應(yīng)用的道路。
富士通半導體最近在其會津若松工廠建成了一條6英寸晶圓大規(guī)模生產(chǎn)線,并將在2013年下半年開始GaN功率器件的滿負荷生產(chǎn)。今后,通過提供針對客戶應(yīng)用而優(yōu)化的功率器件以及電路設(shè)計技術(shù)支持,富士通半導體將支持用途廣泛的低損耗、高集成的電源單元的開發(fā)。富士通半導體希望其GaN功率器件銷售收入在2015財年達到約100億日元。
圖2:富士通半導體的氮化鎵功率器件與傳統(tǒng)硅基功率器件的效率對比