X 射線光譜 (X-Ray Spectroscopy)是進(jìn)行態(tài)密度測試的常規(guī)方法,但通過對納米材料電性能直接測試,也可以推到出態(tài)密度。用掃描隧道電鏡測試用微分電導(dǎo)(di/dv)隨電壓的曲線即可推到出態(tài)密度。這種方法利用低電平 AC 信號(hào)調(diào)制于靜態(tài)電流進(jìn)行測試,電鏡電極與被測樣品間為高阻接觸。
由于X 射線光譜和掃描隧道電鏡都是昂貴的設(shè)備,如果不是制備并表征納米材料,僅僅是對納米材料進(jìn)行應(yīng)用性研究,源表(SMU) + 納米探針臺(tái)不失為一種高性價(jià)比的替代方案。與掃描隧道電鏡法不同,納米探針臺(tái)和被測樣品間為低阻接觸,這就要求SMU必須具備低電平測試能力,并根據(jù)被測樣品的阻抗改變SMU工作模式。這種方法主要測試被測樣品的電阻,電阻率及霍爾效應(yīng),更適合納米電子器件的測試。
二維納米材料電阻率測試
對二維納米材料(如石墨烯),電阻率測試是重要的測試項(xiàng)目,測試方法主要為四探針法(The Four-Point Collinear Probe Method)與范德堡法(The van der Pauw method)。
二維納米材料霍爾效應(yīng)測試
當(dāng)電流垂直于外磁場通過半導(dǎo)體時(shí),載流子發(fā)生偏轉(zhuǎn),垂直于電流和磁場的方向會(huì)產(chǎn)生一附加電場,從而在半導(dǎo)體的兩端產(chǎn)生電勢差,這一現(xiàn)象就是霍爾效應(yīng),這個(gè)電勢差也被稱為霍爾電勢差。通過對電勢差測試,可以得到被測材料的載流子濃度與載流子遷移率等參數(shù)。二維納米材料霍爾效應(yīng)測試,依然用范德堡法,但電極接線與范德堡法測試電阻率有所不同,并且在測試霍效應(yīng)時(shí),通常要加磁場。
納米材料及電子器件電學(xué)測試面臨的挑戰(zhàn)
●納米級(jí)尺寸,性能異于宏尺寸材料與器件
●狀態(tài)變化快,對測試儀器響應(yīng)速度有要求
●需配合納米探針臺(tái)
●必須防自熱,否則極易燒毀被測樣品,需選擇帶有脈沖模式的 SMU
納米材料承受及測試電流超?。ㄟ_(dá) fA 級(jí)),承受及測試電壓超低(達(dá) nV 級(jí)),不同種類的材料,電阻范圍超寬,從uΩ~TΩ,需選擇與被測納米材料和器件電性能相適應(yīng)的 SMU,需多種降低誤差與噪聲的手段,如加流測壓或加壓測流,四線法連接,屏蔽與濾波,降低熱噪聲等。
有關(guān)納米材料電學(xué)測試方案將分別在《納米線/碳納米管測試方案》及《二維/石墨烯材料測試方案》中詳述。納米材料電學(xué)測試SMU 應(yīng)用場景、測試特點(diǎn)及選型原則的示意圖,結(jié)合被測納米材料或納米電子器件的類型及測試要點(diǎn),選擇最適合的SMU。4200 – SCS 幾乎適用于全部種類的納米材料的測試,當(dāng)然,某些特殊的源表更適合一些特殊的應(yīng)用。
(來源:泰克科技)